第七百七十七章 99年的另一件大事 (第4/10页)

，林本坚带着他的发明，四处求助，但是，没有任何一个光刻机巨头愿意用他的设计，甚至，大家都觉得扯淡，把光刻机泡在水里？你见过什么电路是泡在水里的？还是故意泡水？

    在当初那段时间里，林本坚就是硅谷里的笑话，后来，林本坚消失了，大家伙也不知道林本坚去了什么地方，一直到后来，中芯国际捣鼓出来了0.13微米工艺，大家伙才知道，林本坚的设想是正确的！

    传统的光刻机使用的激光光源是193纳米的，也就是说，最多只能加工到0.18微米（按说193纳米应该是0.19微米，但是为啥工艺都是0.18微米的，华东之雄也不知道，按说这个时候的工艺还没有水分，到了后来的5纳米，7纳米之类的，水分才真叫大，英特尔在14纳米上止步那么久，实际上，如果按照真正的规则，台积电的5纳米和7纳米，并不比英特尔的10纳米高级，台积电的工艺里都是水），如果再进一步，那就得寻找新的光源。

    在这个方面，各个光刻机巨头，比如尼康、ibm等等，走的都是寻找新光源的方式，用波长更短的激光来进行光刻，这样就能继续提升工艺制程了。

    但是，这样做耗费巨资，时间也很长，现在，各个公司还没有掌握157纳米的光刻法，打算进步到0.15微米的时候，东方就把湿式光刻法给捣鼓出来了，直接越过了157纳米，通过光的折射，进步到了132纳米，实现了0.13微米的工艺制程。

    这就属于技术上的弯道超车了。

    如果从132纳米。继续降低到90纳米，那当然还需要选择新的光源，在这条道路上，东方可能会走很久，但是，他们在0.13微米的工艺制程上，已经甩开了对手一大截，靠